Resonant tunneling diodes made up of stacked self-assembled Ge/Si islands

verfasst von
O. G. Schmidt, U. Denker, K. Eberl, O. Kienzle, F. Ernst, R. J. Haug
Abstract

Multiple layers of self-assembled Ge/Si islands are used for resonant tunneling diodes (RTDs). The extremely closely stacked Ge nanostructures form vertical channels with energetically deep thermalization layers and high Si double barriers. Two resonances are found in the RTD current-voltage curve, which are attributed to the heavy-heavy hole (hh) and heavy-light hole (lh) transition. The lh resonance shows negative differential resistance up to 50 K. With increasing magnetic field, the lh resonance slightly shifts to higher voltages.

Organisationseinheit(en)
Institut für Festkörperphysik
Externe Organisation(en)
Max-Planck-Institut für Festkörperforschung
Max-Planck-Institut für Intelligente Systeme (Stuttgart)
Typ
Artikel
Journal
Applied Physics Letters
Band
77
Seiten
4341-4343
Anzahl der Seiten
3
ISSN
0003-6951
Publikationsdatum
19.12.2000
Publikationsstatus
Veröffentlicht
Peer-reviewed
Ja
ASJC Scopus Sachgebiete
Physik und Astronomie (sonstige)
Elektronische Version(en)
https://doi.org/10.1063/1.1332817 (Zugang: Geschlossen)
https://doi.org/10.15488/2828 (Zugang: Offen)